OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉蒸發鍍膜爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門設計針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5“x5“，并且頂部載樣臺可旋轉，提高鍍膜均勻性。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），大升溫速率為10ºC/s 。對于探索新一代的薄膜太陽能電池，

● 由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部，兩溫度控制器進行獨立控溫
● 最大升溫速率為10℃/s
● 最高溫度可達800℃
● 兩樣品臺距離以及旋轉均可通過觸摸屏控制
● 頂部載樣臺可旋轉

AC 220V, 50/60Hz （需要50A的空氣開關）

● 空法蘭為316不銹鋼制作
● 頂部法蘭（可通過控制盒進行上升和下降）：
   機械壓力表
   KF16接口，可以安裝防腐真空計
   兩個不銹鋼精密針閥用于氣體的進出
● 底部法蘭：
   KF25接口，可以與真空泵相連接
   法蘭是通過兩個硅膠O型圈進行密封：
   真空度：20Pa（機械泵）
   真空度：10-1Pa（分子泵）

● 由兩組紅外燈管作為加熱元件，分別位于頂部和底部
● 兩個加熱臺之間的距離可以通過直流電機調節（觸摸屏控制）
● 頂部載樣臺轉速可調（觸摸屏控制）
● 為了減少熱量輻射和達到較快的冷卻速率，加熱元件安裝在帶有水冷夾層的不銹鋼殼體中，（不銹鋼殼體采用316不銹鋼制作）
● 采用導熱率較高的氮化鋁陶瓷片（5"×5"×0.5mm厚度）作為載樣臺，以達到較好的加熱均勻性
● 注：可選購5"x5"的石墨坩堝放于底部載樣臺用來盛放蒸發原料，提高溫度均勻性
  

● 兩個精密的溫控系統分別獨立控制上下兩個加熱區，可設置30段升降溫程序
● 每個溫控系統都帶有超溫和斷偶保護
● PC通訊接口，軟件可安裝，可將控溫程序和溫度曲線導入到電腦中

● 最高工作溫度為：800℃
● 兩個加熱區之間的最大溫差為300℃

● 建議加熱速率≤ 10oC/s（每個溫區單獨加熱）
● 冷卻速率> 10oC/s (800 - 300oC)

兩個K型熱電偶，安裝在頂部和底部，都與氮化鋁陶瓷片相接觸

● 此款儀器使用時需要配用一循環水冷機（58L/min)
● 實驗時需要一個真空泵，可與本公司選購真空泵
● 若要使真空腔體內達到更潔凈的工作環境，可換購無油泵
● 可選購質子流量計混氣系統，將實驗所需氣體安比列混好后導入到真空腔體中
  

790mm × 600mm × 1100mm