GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等廣泛的材料。為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學(xué)涂層，預(yù)*行表面處理可以得到顯著的效果。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2025-02-17

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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超聲波清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) 臭氧清洗機(jī)

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產(chǎn)品介紹

GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動(dòng)控制的樣品臺(tái)，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的一致性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動(dòng)的工作臺(tái)（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學(xué)元件和塑料等，也可在常壓下進(jìn)行等離子增強(qiáng)氣相沉積。

性能指標(biāo)和基本配置
主要參數(shù)	● 工作環(huán)境：溫度 < 42°C，濕度 ≤ 40℃RH ● 輸入電源：208 V- 240VAC, 50Hz, < 1000W ● 等離子體工作壓力
RF發(fā)生器	● 輸出頻率：20-23kHz , 25KV ● 等離子槍頭：儀器中包括兩種等離子槍頭：圓形頭：10-12mm，矩形頭：15-18mm
輸入氣體氣壓，工作氣體	● 40 PSI min.(0.055 Mpa) ● Air, N2, Ar, He 或混合氣體(不可通入易燃易爆氣體 )
樣品臺(tái)和控制柜	● 配有可在X-Y軸移動(dòng)的樣品臺(tái)，通過步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，采用SBC控制盒控制 ● 可手動(dòng)調(diào)節(jié)樣品臺(tái)在Z軸方向上的移動(dòng)距離 ● 控制盒采用LCD顯示，可設(shè)置其等離子槍頭的掃描程序。 ● 最大掃描范圍：8" x 9" ● 一個(gè)直徑為4"的真空吸盤安裝在X-Y樣品臺(tái)上，可吸住直徑為6"的樣品。 ● 配有一真空泵，可與真空吸盤相連接 ● 整個(gè)系統(tǒng)安裝在一移動(dòng)架上（600x600x 800Lmm） ● 可選：可選加熱樣品臺(tái)（最高溫度可加熱到500℃),也可將設(shè)備放置在手套箱中操作。
外形尺寸	處理樣品臺(tái)尺寸：560mm L x483mm W x 609mm H 等離子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H 控制盒尺寸：330mm L x 305mm W x 152mm H
凈重	55kg
文獻(xiàn)	請(qǐng)點(diǎn)擊鏈接以了解更多關(guān)于AP-PECVD應(yīng)用的信息：常壓等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（AP-PE-CVD）用于在低溫下生長薄膜。
質(zhì)量認(rèn)證	所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA/CE認(rèn)證，若客戶出認(rèn)證費(fèi)用，本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證。
保修期	一年保修，終身技術(shù)支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。