GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品，有自動控制的樣品臺，就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學元件和塑料等，也可在常壓下進行等離子增強

GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀

● 工作環境：溫度 < 42°C，濕度 ≤ 40℃RH
● 輸入電源：208 V- 240VAC, 50Hz, < 1000W
● 等離子體工作壓力

● 輸出頻率：20-23kHz , 25KV
● 等離子槍頭：儀器中包括兩種等離子槍頭：圓形頭：10-12mm，矩形頭：15-18mm
 

● 40 PSI min.(0.055 Mpa)
● Air, N2, Ar, He 或混合氣體(不可通入易燃易爆氣體 )

● 配有可在X-Y軸移動的樣品臺，通過步進電機驅動，采用SBC控制盒控制
● 可手動調節樣品臺在Z軸方向上的移動距離
● 控制盒采用LCD顯示，可設置其等離子槍頭的掃描程序。
● 最大掃描范圍：8" x 9"
● 一個直徑為4"的真空吸盤安裝在X-Y樣品臺上，可吸住直徑為6"的樣品。
● 配有一真空泵，可與真空吸盤相連接
● 整個系統安裝在一移動架上（600x600x 800Lmm）
● 可選：可選加熱樣品臺（最高溫度可加熱到500℃),也可將設備放置在手套箱中操作。
    

處理樣品臺尺寸：560mm L x483mm W x 609mm H
等離子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H
控制盒尺寸：330mm L x 305mm W x 152mm H

55kg

請點擊鏈接以了解更多關于AP-PECVD應用的信息：常壓等離子體增強化學氣相沉積（AP-PE-CVD）用于在低溫下生長薄膜。

所有電器元件（>24V）都通過UL/MET/CSA/CE認證，若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。

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GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀