VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀，其中一個靶頭采用直流（DC）濺射，可濺射金屬靶材制備金屬膜，另一個采用射頻（RF）濺射，可濺射金屬和氧化物靶材，制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜，如鐵電、導(dǎo)電，合金，半導(dǎo)體，陶瓷，介電，光學(xué)，氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便，是一套理想的實驗工具。

● 輸入電源：220V AC 50/60Hz
● 功率：＜2KW（包含真空泵）
● 濺射電源：安裝有兩個濺射電源：
● 直流（DC）電源：500W，針對于制作金屬膜
● 射頻（RF）電源：300W，可制作氧化物和金屬膜

● 體積小，操作簡便
● 真空腔室、真空泵組整機模塊化設(shè)計，控制電源為分體式設(shè)計，可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需求。
● 可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍，購買前請聯(lián)系我公司銷售。

● 儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層（圖一）
● 一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
● 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材
● 靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
● 可以單獨訂購RF連接線作為備用（圖二）
● 設(shè)備包含一臺水冷機，用于靶頭冷卻（圖三）
   

● 載樣臺尺寸：φ140mm（最大可放置4"的基底）
● 載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)）
● 載樣臺最高可加熱溫度為500℃

● 真空腔體：φ300 mm  x 300 mm H，采用不銹鋼制作
● 觀察窗口：φ100 mm
● 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

● 儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計，量程為：0-100sccm
● 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
● 此系統(tǒng)運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設(shè)備中不包含）

● 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)（德國制作）
● 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar（僅供參考，詳情請點擊）

● 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

● 此設(shè)備為DIY設(shè)備，參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細溝通
● 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
● 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面
● 超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物。
● 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力

● 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
● 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥（設(shè)備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

CE認證